卷對(duì)卷共蒸法鍍膜設(shè)備不符合技術(shù)合同司法鑒定報(bào)告

引言

設(shè)備概述

鑒定依據(jù)

1. 技術(shù)合同：設(shè)備購(gòu)買合同中明確的技術(shù)規(guī)格和性能指標(biāo)，包括設(shè)備的真空度、蒸發(fā)速率、薄膜厚度偏差等。


2. 國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)：參照GB/T 《真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件》等國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。


3. 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)：結(jié)合設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，如電子行業(yè)的薄膜均勻性要求。


4. 法律條款：依據(jù)《中華人民共和國(guó)合同法》第六十條、第一百零七條等條款，對(duì)設(shè)備質(zhì)量進(jìn)行評(píng)估。

鑒定流程

1. 資料審查：收集并審查技術(shù)合同、設(shè)備說明書、驗(yàn)收記錄等相關(guān)資料，明確設(shè)備的技術(shù)要求和實(shí)際性能。


2. 現(xiàn)場(chǎng)勘查：對(duì)設(shè)備進(jìn)行實(shí)地檢查，觀察設(shè)備的外觀、結(jié)構(gòu)和運(yùn)行狀態(tài)，記錄存在的問題。


3. 性能測(cè)試：按照技術(shù)合同和標(biāo)準(zhǔn)，對(duì)設(shè)備的真空度、蒸發(fā)速率、薄膜厚度等關(guān)鍵性能進(jìn)行測(cè)試。


4. 數(shù)據(jù)分析：對(duì)比測(cè)試結(jié)果與合同要求，分析設(shè)備不符合技術(shù)合同的具體原因。


5. 報(bào)告編寫：根據(jù)鑒定結(jié)果，編寫詳細(xì)的鑒定報(bào)告，提出改進(jìn)建議。

常見質(zhì)量問題

1. 真空系統(tǒng)問題：設(shè)備真空度不達(dá)標(biāo)，導(dǎo)致鍍膜過程中氣體雜質(zhì)增加，影響薄膜質(zhì)量。


2. 蒸發(fā)源性能不足：蒸發(fā)源加熱不均勻，導(dǎo)致蒸發(fā)速率不穩(wěn)定，薄膜厚度偏差較大。


3. 控制系統(tǒng)故障：設(shè)備控制系統(tǒng)反應(yīng)遲鈍，無法精崅控制鍍膜參數(shù)，影響生產(chǎn)效率。


4. 機(jī)械傳動(dòng)問題：卷材傳輸系統(tǒng)運(yùn)行不穩(wěn)定，導(dǎo)致卷材張力不均，影響薄膜均勻性。


5. 薄膜性能不達(dá)標(biāo)：薄膜附著力、硬度等性能不符合技術(shù)合同要求，影響產(chǎn)品應(yīng)用。

鑒定結(jié)果

1. 真空度不足：設(shè)備真空度僅為5×10^-3 Pa，低于合同要求的1×10^-4 Pa，導(dǎo)致鍍膜過程中氣體雜質(zhì)增加，影響薄膜質(zhì)量。


2. 蒸發(fā)速率不穩(wěn)定：蒸發(fā)源加熱不均勻，導(dǎo)致蒸發(fā)速率波動(dòng)較大，薄膜厚度偏差超過合同規(guī)定的±5%。


3. 控制系統(tǒng)反應(yīng)遲鈍：設(shè)備控制系統(tǒng)無法實(shí)時(shí)調(diào)整鍍膜參數(shù)，導(dǎo)致生產(chǎn)過程中薄膜厚度波動(dòng)較大。


4. 薄膜性能不達(dá)標(biāo)：薄膜附著力測(cè)試結(jié)果為2N，低于合同要求的5N，影響產(chǎn)品應(yīng)用。

結(jié)論

機(jī)構(gòu)介紹